DNP, 2nm 세대 EUV 리소그래피용 포토마스크 제조 공정 개발 가속화

다이닛폰 프린팅(Dai Nippon Printing Co., Ltd., DNP)(도쿄: 7912)은 반도체 제조의 최첨단 공정인 극자외선(Extreme Ultra-Violet, EUV) 리소그래피를 지원하는 2나노미터(10-9m) 세대 로직 반도체를 위한 포토마스크 제조 개발에 착수했다. DNP는 하도급업체로서 도쿄에 본사를 둔 라피더스(Rapidus Corporation)에도 새로 개발한 기술을 제공할 예정이다. 라피더스는 신에너지-산업기술종합개발기구(New...